美國BROOKS流量計GP200 系列金屬密封壓力式質量流量控制器

所有的表現。沒有任何限制。
GP200 系列是第一款完全不敏感的基于壓力的質量流量控制器 (P-MFC)，專為半導體制造中的先進蝕刻和沉積工藝而設計。

GP200 系列 P-MFC 采用專利架構，克服了傳統 P-MFC 的局限性，即使在輸送低蒸氣壓工藝氣體時也能提供最精確的工藝氣體輸送。它包括幾個獨特的設計方面，包括與下游閥門架構相結合的集成壓差傳感器，可在行業中最廣泛的操作條件下實現最精確的工藝氣體輸送。

由于 GP200 系列支持如此廣泛的工藝條件，它可以用作許多傳統 P-MFC 和熱 MFC 的直接替代和升級。它降低了氣體輸送系統的復雜性和擁有成本，因為它消除了對壓力調節器和傳感器等組件的需求。

特征

真正的差壓測量
降低入口壓力運行
下游閥門結構
匹配的瞬態響應
零泄漏控制閥
MultiFlo TM技術提供了無與倫比的靈活性——一個設備可以針對數千種不同的氣體和流量范圍配置進行編程，而無需從氣體管線中移除 MFC 或影響精度
本地顯示顯示流量、溫度、壓力和網絡地址
DeviceNet TM、EtherCAT®、RS-485 L-Protocol 和模擬接口

好處
通過消除匹配和補償兩個獨立壓力傳感器的要求，GP200 差壓技術降低了測量不確定性，從而提高了準確性、可重復性和漂移性能。
由于專為低壓差測量而優化的 GP200 差壓傳感器，現在使用 P-MFC 可以在較低的入口壓力下實現更安全的晶圓廠操作。
下游閥門結構確保精度獨立于下游壓力，使流量輸送到高達 1200 Torr 的壓力。快速關閉閥門解決了上游 MFC 閥門設計中出現的非生產性配方等待時間或“尾部效應”，這些閥門需要額外的時間來排出其內部氣體體積。
超快、高度可重復的上升和下降流動穩定時間可在先進的高循環沉積和蝕刻工藝中實現更嚴格的工藝控制。
閥門關閉性能提高 100 倍
使用 MultiFlo TM，MFC 滿量程流量范圍通常可以按 3:1 的系數重新按比例縮小，而不會影響精度、調節比或規格泄漏，以實現最佳工藝和庫存靈活性 
方便的用戶顯示和獨立的診斷/服務端口有助于設備安裝、監控和故障排除

美國BROOKS流量計主要應用
半導體制造
蝕刻
化學氣相沉積 (CVD)
需要高純度全金屬流路的氣流控制應用